碱性蚀刻液提铜再生，目前主流技术是萃取电积技术。
该技术通过萃取-反萃技术，将饱和的废蚀刻液中的铜离子还原至合适浓度，经添加相关物料后(蚀刻盐、添加剂、氨水)将废液的ph值、氯离子浓度等参数调至合适位置，废蚀刻液获得再生重回生产线蚀刻，无需重新购买蚀刻子液。而且能实现蚀刻废液中铜离子的全部回收，形成高纯度电解铜(99.95％)。
那么，该萃取电积技术的工艺流程是怎样的呢？天一萃取技术工程师为我们介绍，碱性蚀刻液提铜再生主要分为以下三个步骤：
萃取：碱性蚀刻液与萃取剂分别从CWL-M系列高效离心萃取系统的重相进料口和轻相进料口进入，含铜萃取剂会从轻相出料出出来。萃取剂是萃取系统关键材料，它的质量决定萃取效率，决定再生液的质量。
反萃：含铜的萃取剂在CWL-M系列高效离心萃取系统与硫酸混合纯质后，铜离子被硫酸反萃过去形成硫酸铜溶液，萃取剂恢复萃取能力继续回萃取系统工作。
电积：硫酸铜溶液进入电解系统，在阴阳极电场的作用下形成电解铜和硫酸，电解铜纯度高达99.95％，硫酸继续返回反萃段工作。
